最近网上有沸沸扬扬的传言，说我们国家已经成功研制了光刻机，还是在一个高度保密的实验室内。
不是，都高度保密了，这些人哪来的消息？
甚至我都刷到了几条抖音快手视频，其中一条说的煞有介事，说我国这台光刻机的研发团队由一些人是具有国际企业背景的技术人员，还有一些年轻毕业生，来源覆盖亚洲、欧洲及北美地区，团队结构体现了技术引进与本土培养相结合的特点。
还有一条说的是目前还不具备制造芯片的能力，因为目前光束无法准确聚焦，还有的在说极为具体的技术方案，是和国外一样的方案，是激光等离子方案，不是放电等离子或者什么稳态聚束。
这种种信息看的我有一种我们国家存在一群未卜先知的命理学大师的错觉，这些人一边说我国的光刻机高度保密，一边又能说出来高度保密的细节，那么我们的高度保密看来可能和快餐店的大杯一样，其实是个小杯。
快餐店的杯子有大杯，超大杯，特大杯，其实就是小杯中杯大杯，看来我们的保密也是高度保密，超高度保密和特高度保密三个级别，对应的是不保密，普通保密和高度保密。
所以这些人才能轻松将高度保密的东西说出来，就像是我们能轻松喝完大杯饮料一样，但是真去查，又找不到任何官方途径或者渠道的报道来说明我们的光刻机研发成功的报道。
这些人到底是哪里来的消息，我十分好奇，我怀疑是通稿的时候弄错对象了，因为最近的光刻机新闻只有日本一家的有，日本印刷株式会社（DNP）近日宣布成功开发出电路线宽为 10 纳米的 NIL 纳米压印技术，该技术可用于相当于 1.4 纳米等级的逻辑半导体电路图形化，计划 2027 年量产。
这家公司由于踏入相关行业不久，所以对营收的信心不大，力争在2030年将纳米压印相关业务营收提升至40亿日元，就算完成了任务，目标只有约1.8亿元人民币。
还有的消息就是英特尔安装成功了一台光刻机，国外的消息也不多，而国内的消息，最近有关光刻机的进度，目前最早的是4月的消息，上海光学的研究员绕过二氧化碳激光，使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源，已经达到国际领先水平，对中国自主开展EUV光刻有重要意义。
剩下的就是更早的1月份，哈工大宣布成功研发出中心波长达到13.5纳米的极紫外（EUV）光技术。
我严重怀疑有量产的通稿买错文案了，可能是日本外务省的经费使用没有审查，本来是想吹最近日本的科技进步，也可能是美国的稿子，考虑到日本外务省真给我们国内的一些人拨款，最近美国的特朗普断粮严重，但是日本还是有钱的。
结论只能是日本，这是认知战的一部分，吹的就是日本的技术进步，以瓦解我军民斗志，让我们认为日本走在我们前面去了，国力比我们强大，所以这个稿子可能是买给日本印刷株式会社的。
日本的情况，刚好和他们讲的高度保密的信息都对的上，而且买通稿的一方必然知道相关的内部信息，这样的推测，逻辑是通顺的。唯一的问题就是买错了稿子，本来是吹日本的，现在吹成中国了，想要露脸没露出来，露出来了屁股。
斗争的烈度还在加强，这样的事情必然要层出不穷，我们并没有十足的证据，毕竟也没有办法对他们的账单流水，但是考虑到近日广东省查获的孕妇血样非法出境一案，我们不得不对此担忧，提高警惕。
