目 录：
序言
一、中美芯片战已经接近结束
二、什么是高端产品？
三、我最担心的事情还是要出现了——上千年来十船九空格局将重现
四、刨析一篇博士水平的专业文章错在哪里？
五、科学的理论传统与工匠传统——中国科技体制缺什么？
六、系统介绍一下清华的光源和光刻机——SSMB-EUV需要的是商业模式的创新
七、华为Mate 60 Pro真正令人震撼的是准6G功能
我们拿媒体上算是相对非常专业的一篇文章来分析一下它错在哪里，以此使人们对什么是真正的技术有更清晰的了解。2021-07-30 06:40·Jim博士在今日头条上发表的“解读国产光刻机困局（九）：哈工大的EUV光刻机光源”。该文原文的链接附在本文最后[10]。为什么说这篇文章还算是非常专业的呢？因为该文作者的确深入研究了哈工大在DPP-EUV光源上的论文、专利，说话和判断都是有确切出处的。该文的基本结论是什么？主要是以下几个：
第一，2018年12月哈工大论文中13.5nm放电Xe等离子体极紫外光源（DPP-EUV光源）的输出功率只有0.1W（有论文截图为证），实际上掌握的只是十年前（1998年）美国Klosner研究组的DPP技术。早在2003年，Xtreme公司利用Xe气在频率1 kHz条件下放电，研发出了XTS 13-35 DPP极紫外光源样机，该样机在2π立体角内获得35 W极紫外辐射功率。当前ASML的LPP-EUV光源的输出功率为500W。以此功率比较来显示哈工大在EUV光源技术上落后的程度。并且该文在一开始还搞了一个投票，要读者去猜测哈工大的DPP-EUV光源输出功率是多少，从0.1W到200W给了五个选择。
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